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网络研讨会:Nexsa G2 X射线光电子能谱仪新产品技术交流会

来源:赛默飞世尔材料与结构分析 浏览量:454次
由【赛默飞世尔材料与结构分析】举办的【网络研讨会:Nexsa G2 X射线光电子能谱仪新产品技术交流会】将于【2020-09-14】在【上海 浦东新区 自由贸易试验区德堡路379号8幢】召开,主讲人【Dr. Tim Nunney、Dr. Paul Mack、Dr. Hsiang-Han Tseng】,欢迎业内人员踊跃参加!

XPS作为一种GX的表面分析手段,不仅广泛应用于化学分析、材料应用开发、物理理论研究等学术领域,对于机械加工、印刷电路、镀膜材料工艺控制和纳米功能材料开发等工业领域,也能提供全方位的解决方案。随着表面分析技术拓展性的逐渐增强,各类型材料对于XPS表征分析的需求都日益增长。

今年赛默飞世尔科技(ZG)有限公司发布了全新一代Thermo Scientific™ Nexsa™ G2 X射线光电子能谱仪。我们将在本期网络研讨会上详细介绍这款仪器在表面分析领域的应用,让您了解到Nexsa G2以及它上面搭载的多种附件在不同材料分析当中的实际案例,例如紫外光电子能谱(UPS),离子散射谱(ISS),反射电子能量损失谱(REELS)和拉曼光谱。同时,我们也将详细介绍Nexsa G2一些重要且独特的功能,例如 MAGCIS双束离子源,ZX加热载台,以及为解决一些电池、高分子、氧化物等空气敏感或易潮解样品而专门设计的真空转移装置。

研讨会将邀请赛默飞英国研发应用ZX的专家分享报告,并留有互动提问时间。欲报从速!期待您的参与!

专家阵容

· Dr. Tim Nunney

赛默飞ZS应用经理

· Dr. Paul Mack

赛默飞ZS应用专家

· Dr. Robin Simpson

赛默飞应用专家

· Dr. Hsiang-Han Tseng

赛默飞应用专家

网络研讨会时间

9月14日,星期二

场次1:北京时间 15:00

场次2:北京时间 23:00

报名方式

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Thermo Scientific™

Nexsa™ G2 X 射线光电子能谱仪

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#GX的科研级能谱仪

新型微聚焦单色化X射线源可实现以 5 μm 步长的 10 μm 至 400 μm 的 X 射线光斑大小连续可调,从而确保将分析束斑调节至与目标特征匹配,zui大程度地增强信号。利用升级的 X 射线源、GX的电子透镜和优化的检测器,可实现zhuo越的灵敏度和GX的数据采集。

#绝缘体分析

Nexsa G2 系统上的一键式自动电荷补偿系统可轻松实现绝缘样品分析。zhuan利的双束中和源避免绝缘样品发生荷电,因为使用极低能量的电子,大多数情况下将无需进行荷电校正。

#深度剖析

Nexsa G2 系统配备有标准离子源或 MAGCIS(可选的单粒子和气体团簇复合型离子源) 进行深度剖析。自动离子源优化和气路控制可确保zhuo越的性能和实验重现性。

#多技术联用

使用 Nexsa G2 系统,所有技术将触手可及,一套系统全面分析您的样品。标准配置具备高性能 XPS 所需的所有功能,ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身。升级选项可将系统转换为完整的分析工作站,有助于解决材料分析问题,提高生产效率。

#特殊样品台可选

Nexsa G2增加了多种样品台可选,以满足科研的特殊应用需求。特殊可选样品台有:NX 加热台,用于原位的样品加热分析;多触点偏压样品台,可实现样品在真空系统中的施加电压,偏压或循环电极后的XPS原位分析;惰性气体转移腔,可实现空气敏感样品的真空/惰性气体保护转移;MCA 样品台,用于XPS+SEM的关联分析,实现XPS技术和电子显微技术对样品的同一个分析区域采集数据,并进行比对分析。

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2021-09-03 17:16:21
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